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半导体下半年设备商按赞

发布时间:2020-06-28 11:47:37 阅读: 来源:POM厂家

微影设备大厂荷商艾司摩尔第2季财报符合市场预期,执行长Peter Wennink表示,行动装置需求强劲,带动晶圆代工厂及存储器厂扩大投资,其中晶圆代工厂已着手准备20纳米以下先进制程产能,DRAM厂则扩大Mobile DRAM的扩产,因此,下半年市场景气将优于上半年。

艾司摩尔(ASML)第2季因合并了微影光学厂Cymer,单季营收达11.87亿欧元,并销售了38台微影设备,其中来自于晶圆代工厂的订单占了43%强,又以台积电的订单最多。而艾司摩尔已接但未出货(backlog)的微影设备订单已达42台,将在年底前陆续交货给客户。

艾司摩尔执行长Peter Wennink表示,晶圆代工厂客户已经着手进行20纳米至14纳米以下先进制程的微影设备建置,将用来生产新一代的行动装置内建处理器芯片,同样受惠于行动装置强劲需求的DRAM厂,因为面临产能短缺问题,也已开始着手扩充Mobile DRAM产能。

艾司摩尔先前预估今年营收目标约47.3亿欧元,但受惠于客户扩大采购,营收目标将上调到50亿欧元。

艾司摩尔与英特尔、台积电、三星等共同合作进行的「客户联合投资专案」(Customer Co-Investment Program),主要投入极紫外光(EUV)及18寸晶圆微影设备的开发。

在EUV微影技术方面,艾司摩尔指出,研发进度符合预期,光源功耗已提升到55W,并完成60W的测试,预估2014年可将EUV微影设备的每小时晶圆产出量,提升到70片速度,亦即光源功耗将提升到100W。而艾司摩尔预估今年将出货5台NXE:3300B的EUV微影设备,并已拿到11台正式订单及7台预订订单。

根据台积电共同营运长蒋尚义的预期,EUV至少要达到每小时完成处理100片晶圆的产出量,才会具有经济效益,带动半导体厂改用EUV微影技术。设备业者推估,时间点应会落在2015年左右,10纳米可能是EUV真正可以进入量产的制程节点。

在18寸晶圆微影设备部份,艾司摩尔根据客户联合投资专案内容,正在准备生产6套设备,初期将分成浸润式(immersion)及EUV等两大平台,其中2015年会先推出EUV微影平台试产设备,2016年推出浸润式平台试产设备,真正量产型的18寸微影设备的出货时间大约落在2018年。

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